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簡介：PMMA（聚甲基丙烯酸甲酯）是一種通用的聚合材料，適用于許多成像和非成像微電子系統(tǒng)。PMMA光刻膠是將PMMA聚合物溶解在諸如苯甲醚之類的安全溶劑中，曝光會(huì)導(dǎo)致聚合物鏈斷裂。PMMA作直寫式電子束...

簡介：刻膠（resist）概述光刻膠是一大類具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料，是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist，又翻譯為抗蝕劑、光阻等。廣泛應(yīng)用于...

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簡介：上海伯東日本進(jìn)口適合中等規(guī)模量產(chǎn)使用的離子刻蝕機(jī),樣品臺(tái)可選直接冷卻/間接冷卻

簡介：上海伯東日本進(jìn)口適合小規(guī)模量產(chǎn)使用和實(shí)驗(yàn)室研究的離子蝕刻機(jī),一般通氬氣Ar,無污染,內(nèi)部使用美國KRI考夫曼離子源KDC40產(chǎn)生轟擊離子;終點(diǎn)檢出器采用Pfeiffer殘余質(zhì)譜監(jiān)測當(dāng)前氣體成分,判...