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簡介：日本Hitachi在電子顯微鏡領域一向以技術潮流著稱：1972年發布一臺場透射電子微鏡，經過30多年的發展，日立開發、應用了大量的新技術，例如電子槍多重偏壓、浸沒式(In-lens)、半浸沒式(S...

簡介：臺式SEM進入新紀元。畫質更加清晰，操作更加便捷，觀看更加直觀。TM4000系列搭載，可滿足“更好”的觀察需求。臺式SEM應用范圍更廣，助力您的事業發展。

簡介：日立新型高分辨場發射掃描電鏡SU8000系列，是被廣泛認可的S-4800的升級機型，活躍于各*研究與分析領域的Z前沿。其搭載性能優異的冷場發射電子槍，采用日立設計的SuperEB能量過濾技術，以高...

簡介：·Quattro掃描電鏡具有環境真空功能的極靈活、多功能高分辨率掃描電鏡

簡介：?Apreo革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生的高分辨率和信號選擇

簡介：MI4050是具有以下特征的高性能聚焦離子束系統：新型電子光學系統，可達到高水準的SIM像分辨率?大束流使加工速度得以提升?提高了低加速電壓的分辨率，使得高品質TEM樣品制備成為可能可用于截面加工...

簡介：追求的TEM樣品制備工具在設備及高性能納米材料的評價和分析領域，FIB-SEM已成為的工具。近來，目標觀察物更趨微細化；更薄，更低損傷樣品的制備需求更進一步凸顯。日立高新公司，整合了高性能FIB技...

簡介：追求理想的三維結構分析通過自動重復使用FIB制備截面和進行SEM觀察，采集一系列連續截面圖像，并重構特定微區的三維結構。采用的鏡筒布局，從材料、設備到生物組織——在寬廣的領域范圍內實現傳統機型難以...

簡介：1.搭載兩種透鏡模式的高性能SEM鏡筒HR模式下可實現高分辨觀察（半內透鏡）FF模式下可實現高精度加工終點檢測（TimesharingMode）2.高通量加工可通過高電流密度FIB實現快速加工（束...

簡介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...