在近代科學(xué)技術(shù)的許多領(lǐng)域中對(duì)各種薄膜的研究和應(yīng)用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測(cè)定給定薄膜的光學(xué)參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實(shí)際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測(cè)定光學(xué)參數(shù)。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)，因而，橢圓偏振法測(cè)量已在光學(xué)、半導(dǎo)體、生物、醫(yī)學(xué)等諸多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

儀器簡(jiǎn)介：

在近代科學(xué)技術(shù)的許多領(lǐng)域中對(duì)各種薄膜的研究和應(yīng)用日益廣泛。因此，更加精確和迅速的測(cè)定給定薄膜的光學(xué)參數(shù)已變得更加迫切和重要。在實(shí)際工作中可以利用各種傳統(tǒng)的方法測(cè)定光學(xué)參數(shù)，如：布儒斯特角法測(cè)介質(zhì)膜的折射率，干涉法測(cè)膜厚，其它測(cè)膜厚的方法還有稱重法、X射線法、電容法、橢偏法等。由于橢圓偏振法具有靈敏度高、精度高、非破壞性測(cè)量等優(yōu)點(diǎn)，因而，橢圓偏振法測(cè)量已在光學(xué)、半導(dǎo)體、生物、醫(yī)學(xué)等諸多領(lǐng)域得到廣泛應(yīng)用。

技術(shù)參數(shù)：

規(guī)格與主要技術(shù)指標(biāo)： 
測(cè)量范圍：薄膜厚度范圍：1nm-300nm； 折射率范圍：1-10 
測(cè)量zui小示值：≤1nm 入射光波長(zhǎng)：632.8nm 
光學(xué)中心高：80mm 允許樣品尺寸：φ10-φ140mm，厚度≤16mm 
偏振器方位角范圍：0°- 180°讀取分辨率為0.05° 
測(cè)量膜厚和折射率重復(fù)性精度分別為：±1nm和±0.01 
主機(jī)重量：25kg 入射角連續(xù)調(diào)節(jié)范圍：20°- 90°精度為0.05°

主要特點(diǎn)：

儀器采用消光法自動(dòng)測(cè)量薄膜厚度和折射率，具有精度高、靈敏度高以及方便測(cè)量等特點(diǎn)； 
光源采用氦氖激光器，功率穩(wěn)定、波長(zhǎng)精度高； 
儀器配有生成表、查表以及精確計(jì)算等軟件，方便用戶使用。