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CX-200TM型掃描電鏡

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大型樣品室,分析型物鏡,可同時接配EDS/WDS/EBSD,在觀察精細形貌同時,做化學成分和晶體結構定性定量分析。高速渦輪分子泵真空系統,操作維護簡單方便。
CX-200TM標配SE探測器,觀察表面精細形貌形態;可選配BSE探測器,觀察材料成分反差像,同時可擴展低真空觀察模式,非導電樣品可直接觀察;可選配全套的X射線微區分析附件(EDS、WDS,EBSD)

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產品簡介
        大型樣品室,分析型物鏡,可同時接配EDS/WDS/EBSD,在觀察精細形貌同時,做化學成分和晶體結構定性定量分析。高速渦輪分子泵真空系統,操作維護簡單方便。
        CX-200TM標配SE探測器,觀察表面精細形貌形態;可選配BSE探測器,觀察材料成分反差像,同時可擴展低真空觀察模式,非導電樣品可直接觀察;可選配全套的X射線微區分析附件(EDS、WDS,EBSD)原位實現化學成分定性定量,及微區晶體結構定性定量分析。

主要特點:
--錐形物鏡,長焦性能*。
--中大型樣品室分析型物鏡,可同時接配多種探測器,有較強分析拓展能力;
--渦輪分子泵真空系統高效清潔節能,
--全數字化高度集成的電器控制系統,結構緊湊,穩定可靠,與計算機通訊采用高速USB接口。
--zui高支持5120 x 3840像素的圖像采集能力,體現優良的數字化控制掃描系統對電子束的控制精度
--全自動控制能力,一鍵成像,自動燈絲飽和,自動聚焦,自動消象散,自動亮度對比度控制,自動電子束對 中,自動偏壓,物鏡光闌自動搖擺對中合軸。
--NanoStation操作軟件,多種快捷按鈕,簡單方便,同時允許用戶自定義熱鍵,允許更高效的操作;
  圖像灰度直方圖實時顯示,自動調整亮度對比度。
--強大的圖像編輯處理能力
     

技術指標:

分辨率:3.0nm(30kV,SEI)10nm(3KV,SEI) 
            4.0nm(30kV,BSEI) 
放大倍數:10x~300,000x
加速電壓 0.5kV~30kV 
電子槍:三級自給偏壓,偏壓電阻可自動/手動調節,預對中發叉式鎢絲陰極 
透鏡系統:2個聚光鏡,1個物鏡 
物鏡光闌:4孔可變光闌,搖擺對中合軸 
圖像電位移和電旋轉:±50μm(WD:10㎜);0-360°無限 
樣品室:內徑φ210mm,可接配EDS,BSE,WDS EBSD等分析附件. 
樣品臺及行程:五軸樣品臺,Z軸為自動,其余手動
             X:65㎜,Y:40㎜,Z:5~65㎜,T:-20°~+90°,R:360° 
zui大樣品尺寸:160mm(直徑)X 71mm(高度) 
操作系統:PC機控制,Windows7,21.5英寸彩顯,GUI操作軟件嵌入多種圖像實時分析測量工具,鼠標鍵盤操作 
自動功能:自動聚焦,自動亮度對比度,自動消象散,自動飽和,自動對中,自動偏壓電阻。 
視頻分辨率及幀頻:選區模式:320 x 240像素   30幀/秒
                 TV 模式:640 x 480像素     10幀/秒
                 慢掃描模式:800 x 600像素(3檔速度) 
                 掃描模式:1200 x 600像素(SE BSE 雙信號) 
                 照相模式:1280 x 960,2560 x 1920,5120 x 3840像素 
                 示波器模式 
圖像格式 JPG,TIFF,BMP 
語言英語 
真空系統:帶安全防護的自動高真空系統,渦輪分子泵260升/秒+旋片式機械泵100L/min 
          真空度實時顯示。
          高真空:樣品室處真空度優于7.5x10-5 Torr,
          低真空:樣品室 1-270Pa

總功率:2KW
外形尺寸和重量: 
主機:77(W)x88(D)x150(H)㎝,350㎏ 
電腦桌:任意


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