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納米激光粒度分析儀

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LAP-NM10000納米粒度儀一、納米激光粒度分析儀產品介紹  LAP-NM10000納米粒度儀基于光子相關光譜技術,以大動態范圍高速光子相關器為核心器件,采用顆粒粒度反演算法,因此具有準確度高、重復性高的特點,它采用高速數字相關器和專業的高性能光電倍增管作為核心器件,具有快速、高分辨率、重復及準確等特點,是納米顆粒粒度測定的產品

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LAP-NM10000納米粒度儀

一、納米激光粒度分析儀產品介紹

  LAP-NM10000納米粒度儀基于光子相關光譜技術,以大動態范圍高速光子相關器為核心器件,采用顆粒粒度反演算法,因此具有準確度高、重復性高的特點,它采用高速數字相關器和專業的高性能光電倍增管作為核心器件,具有快速、高分辨率、重復及準確等特點,是納米顆粒粒度測定的產品。

二、納米激光粒度分析儀測試原理

  本儀器采用動態光散射原理和光子相關光譜技術,根據顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快,大顆粒布朗運動速度慢,激光照射這些顆粒,不同大小的顆粒將使散射光發生快慢不同的漲落起伏。光子相關光譜法就根據特定方向的光子漲落起伏分析其顆粒大小。因此本儀器具有原理、精度*的特點,從而保證了測試結果的真實性和有效性;是納米激顆粒粒度測定的儀器。

三、性能特點

1、大動態范圍高速光子相關器:采用技術設計的光子相關器,以高、低速通道搭配的結構,有效解決了硬件資源與通道數量之間的矛盾,實現了1010的動態范圍,并保證了相關函數基線的穩定性。

2、優選反演算法:采用較優擬合累積反演法和基于V-曲線判斷準則的正則化算法反演顆粒粒徑及其粒度分布,使測量結果的準確度和重復性均小于1%

3、*的抗噪能力:采用小波消噪技術,解決了散射光強較低時,噪聲過大對測量結果的影響。

4、穩定的光路系統:采用恒溫532nm固態激光光源和單模保偏光纖技術搭建而成的光路系統,保證了光子相關光譜測量系統的穩定性和準確度。

5、高精度溫控系統:基于半導體制冷裝置,采用自適應PID控制算法,使溫度控制精度達±0.1

6、高靈敏度光子探測器:采用專業級高性能光電倍增管,對光子信號具有*的靈敏度和信噪比。光子計數器采用邊沿觸發模式,瞬間捕捉光子脈沖的變化。

四、軟件功能

  1、一鍵啟動式測量,自動生成測試報表

  2、自動調整散射光強,無需用戶干涉

3、自動優化光子相關器參數,以適應不同樣品

五、技術指標

LAP-NM10000納米激光粒度儀技術參數及詳細配置

型號

LAP-NM10000

執行標準

GB/T 29022-2012/ISO 22412:2008

測試范圍

1-10000nm(與樣品有關)

ZETA電位范圍

±500mv

分子量范圍

1000~2×107Da

激光

λ=635nm,恒溫半導體激光器

濃度范圍

0.1ppm—40%w/v (與樣品有關)

探測器

HAMAMATSU光電倍增管(PMT),使用單模保偏光纖

相關器

采樣時間100ns-50ms,相關通道1024,較大動態范圍1010

散射角

90°

樣品池

10mm*10mm , 4ml

溫度范圍

8-60℃(溫度到0.1℃)

數據處理

較優擬合累積分析法和改進正規化算法,可給出平均粒徑及粒度分布曲線

軟件功能

一鍵式測量,自動優化測量參數,輕松生成測試報表

輸出項目

平均粒徑、多分散系數、粒度分布曲線、粒度分布表等

測試速度

<5Min/次

準確性誤差

<1%

重復性誤差

<1%

外形尺寸

390mm×255mm×240mm(目前體積較小的納米粒度儀)

電源

AC100~260V, 50/60Hz, 較大功率80W

使用環境

溫度:15~40℃,濕度20~70%。無冷凝

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