LAP-NM10000納米粒度儀一、納米激光粒度分析儀產品介紹 LAP-NM10000納米粒度儀基于光子相關光譜技術,以大動態范圍高速光子相關器為核心器件,采用顆粒粒度反演算法,因此具有準確度高、重復性高的特點,它采用高速數字相關器和專業的高性能光電倍增管作為核心器件,具有快速、高分辨率、重復及準確等特點,是納米顆粒粒度測定的產品
LAP-NM10000納米粒度儀
一、納米激光粒度分析儀產品介紹
LAP-NM10000納米粒度儀基于光子相關光譜技術,以大動態范圍高速光子相關器為核心器件,采用顆粒粒度反演算法,因此具有準確度高、重復性高的特點,它采用高速數字相關器和專業的高性能光電倍增管作為核心器件,具有快速、高分辨率、重復及準確等特點,是納米顆粒粒度測定的產品。
二、納米激光粒度分析儀測試原理
本儀器采用動態光散射原理和光子相關光譜技術,根據顆粒在液體中的布朗運動的速度測定顆粒大小。小顆粒布朗運動速度快,大顆粒布朗運動速度慢,激光照射這些顆粒,不同大小的顆粒將使散射光發生快慢不同的漲落起伏。光子相關光譜法就根據特定方向的光子漲落起伏分析其顆粒大小。因此本儀器具有原理、精度*的特點,從而保證了測試結果的真實性和有效性;是納米激顆粒粒度測定的儀器。
三、性能特點
1、大動態范圍高速光子相關器:采用技術設計的光子相關器,以高、低速通道搭配的結構,有效解決了硬件資源與通道數量之間的矛盾,實現了1010的動態范圍,并保證了相關函數基線的穩定性。
2、優選反演算法:采用較優擬合累積反演法和基于V-曲線判斷準則的正則化算法反演顆粒粒徑及其粒度分布,使測量結果的準確度和重復性均小于1%。
3、*的抗噪能力:采用小波消噪技術,解決了散射光強較低時,噪聲過大對測量結果的影響。
4、穩定的光路系統:采用恒溫532nm固態激光光源和單模保偏光纖技術搭建而成的光路系統,保證了光子相關光譜測量系統的穩定性和準確度。
5、高精度溫控系統:基于半導體制冷裝置,采用自適應PID控制算法,使溫度控制精度達±0.1℃。
6、高靈敏度光子探測器:采用專業級高性能光電倍增管,對光子信號具有*的靈敏度和信噪比。光子計數器采用邊沿觸發模式,瞬間捕捉光子脈沖的變化。
四、軟件功能
1、一鍵啟動式測量,自動生成測試報表
2、自動調整散射光強,無需用戶干涉
3、自動優化光子相關器參數,以適應不同樣品
五、技術指標
LAP-NM10000納米激光粒度儀技術參數及詳細配置 | |
型號 | LAP-NM10000 |
執行標準 | GB/T 29022-2012/ISO 22412:2008 |
測試范圍 | 1-10000nm(與樣品有關) |
ZETA電位范圍 | ±500mv |
分子量范圍 | 1000~2×107Da |
激光 | λ=635nm,恒溫半導體激光器 |
濃度范圍 | 0.1ppm—40%w/v (與樣品有關) |
探測器 | HAMAMATSU光電倍增管(PMT),使用單模保偏光纖 |
相關器 | 采樣時間100ns-50ms,相關通道1024,較大動態范圍1010 |
散射角 | 90° |
樣品池 | 10mm*10mm , 4ml |
溫度范圍 | 8-60℃(溫度到0.1℃) |
數據處理 | 較優擬合累積分析法和改進正規化算法,可給出平均粒徑及粒度分布曲線 |
軟件功能 | 一鍵式測量,自動優化測量參數,輕松生成測試報表 |
輸出項目 | 平均粒徑、多分散系數、粒度分布曲線、粒度分布表等 |
測試速度 | <5Min/次 |
準確性誤差 | <1% |
重復性誤差 | <1% |
外形尺寸 | 390mm×255mm×240mm(目前體積較小的納米粒度儀) |
電源 | AC100~260V, 50/60Hz, 較大功率80W |
使用環境 | 溫度:15~40℃,濕度20~70%。無冷凝 |
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