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OPTOTHERM 紅外熱成像顯微鏡

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OPTOTHERM紅外熱成像顯微鏡,OptothermMicro紅外熱成像顯微鏡

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OPTOTHERM紅外熱成像顯微鏡,Optotherm Micro紅外熱成像顯微鏡,這是一臺專為微觀熱成像設計,這是一臺專為科研設計,用來測量微觀熱分布情況,除具有傳統紅外熱成像的優勢外,還具有如下特點:

1. 高分辨率紅外熱成像:640*480像素,60hz高幀數,5um分辨率

微加熱臺 Micro heater

微加熱臺 Micro heater,6.4mm 由于需要采用非接觸方式來測量MEMS元件的溫度,因此Micro是一款用于微觀溫度表征的強大工具,可提供高達5μm/像素空間分辨率的詳細熱圖像。

分析鑒別微米及的紅外圖案,可用于特殊領域防偽鑒定,如微電子器件、IC等的防范標識鑒別。

而MEMS氣體傳感器由于其體積小(mm級),傳感器需要自加熱到一定溫度后,其傳感器的精度才能達到,這就要求在研發和測試過程中對MEMS氣體傳感器的電阻絲溫度測量,需要使用紅外熱成像顯微鏡,如圖電阻絲只有幾十微米

MEMS氣體傳感器 電阻絲只有幾十微米 傳感器需要自加熱到一定溫度后,其傳感器的精度才能達到,這就要求在研發和測試過程中對MEMS氣體傳感器的電阻絲溫度測量,需要使用紅外熱成像顯微鏡.

導管加熱線圈等小型醫療 直徑為500微米 溫度分布和熱響應時間對于表征其性能非常重要。Micro提供了精確的非接觸式測量方法,具有高達5μm/像素的空間分辨率。

激光二極管 laser-diode

光纖通信 等應用的持續增長導致對諸如激光二極管之類的電光器件有更高的要求,關于功率要求和散熱。Micro提供了一種有效的方法來分析器件材料和熱襯底的熱性能。

芯片晶圓熱分布,對于微觀器件,真實熱分布由于微觀器件包含多種發射率不同的材料,需要像素級發射率校正

芯片晶圓熱分布,3.2*2.4mm 對于微觀器件,真實熱分布由于微觀器件包含多種發射率不同的材料,需要像素級發射率校正

2,專為科研設計的選配件:

1)XY高精度移動平臺,120*120mm,步進精度為10um

infrared-microscope-xy-stage

2)自動控制上電的繼電器(八通道):可以精準控制上電及開關,比如設計上電30s后斷電,這個過程同步錄像或拍照

自動繼電器

3)兩種可選高精度熱臺:可以控制真正0℃-80℃,0℃–130℃,可以給樣品均勻加熱或降溫,設置一定實驗環境

高精度熱臺0℃-130℃

4)探針臺:微小器件的上電工具,扎針上電 ,
微探針臺

微探針臺

5)發射率涂層套件:對于發射率低的器件,可以通過噴槍施加薄(1-2微米)聚合物涂層以增加表面的發射率。可承受高達200°C的連續溫度
發射率涂層工具

發射率涂層工具

3,功能強大的軟件:

1) 點,線,面的溫度分析,點顯示跟蹤,研究。

line profile

線性分布:畫一條線上的熱分布,可通過移動垂直線,知道準確位置的準確溫度

area Histogram

區域熱分布表:區域內不同溫度的分布情況,可以移動垂直線知道該溫度下有多少像素點

Strip Chart

熱分布曲線表:可跟蹤若干個點、線、面的,,平均溫度,可通過移動垂直線,對某一具體時間的溫度情況就行研究

2)發射率校正:像素級發射率校正,修正發射率導致的溫度測量偏差,制作發射率表
熱發射率表

熱發射率表,系統自帶像素級熱發射率計算和校正軟件,移動鼠標可知任一點的發射率,通過校正,可測得樣品的真實熱分布

3)可見光及其他照片疊加,可以調節紅外圖像和可見光圖片的透明度
光學圖像和熱圖疊加,通過選擇透明度或過濾低溫,將熱圖和光學或其他圖像進行疊加

光學圖像和熱圖疊加,通過選擇透明度或過濾低溫,將熱圖和光學或其他圖像進行疊加

4)一秒拍攝60張照片,生成照片,結合上述功能,可全面的觀測分析溫度與時間的關系,溫度于空間的關系

總結:

Optotherm Micro紅外顯微鏡,作為一臺專為微觀紅外熱成像研發和設計的專業系統,是做微觀熱分析的一個有力工具,其專為作為熱成像顯微鏡做的優化,犧牲掉普通熱成像便攜性,可充電等各種方便宏觀熱成像的功能,同時,為微觀熱成像研究添加諸多實用和創新的功能,這使得其成為MEMS,電子器件,激光器件,LED,傳感器,氮化鎵器件,SIC,IGBT,微觀醫療器件等等,MEMS熱成像分析, 光纖熱像檢測,測量微型換熱器的傳熱效率, 半導體氣體傳感器的熱分析,微反應器的溫度特性,微致動器的溫度測量,生物樣品的溫度分析, 材料熱檢驗,熱流體分析等等,是關注微觀熱分布的科研或生產的一個工具。

對于Optotherm Micro 紅外顯微鏡相關的應用或調研,可以聯系optotherm中國區應用實驗室進行送樣和評估。


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