產品型號：9XF 產品特點：廣泛應用于應用于教學科研金相分析、半導體硅晶片檢測、地址礦物分析、精密工程測量等領域。應用于電子、光纖、紡織、印刷及微顆粒、粉末、同時也可用于食品安全評估、醫學研究地質研究等。

儀器工作條件：
1.1適用于在電源220V（10%）/50Hz、氣溫攝氏5℃～30℃和相對濕度低于75%的環境條件下運行。
1.2 建議安放在防震工作臺上，環境清潔。

主要技術指標：
（1）光學系統：無限遠消色差光學系統校正系統
（2）目鏡：高眼點大視野平場目鏡PL10X/22mm, 視度可調
（3）鏡筒：鉸鏈式三目（無限遠）；30°傾斜，360°旋轉;
        瞳距調節范圍：54mm-75mm;視度調節±5°；
        兩檔分光比R:T=100：0或50:50
（4）物鏡：無限遠長工作距平場明暗場消色差金相物鏡(5X/ 10X/ 20X/ 50X)
     （標配）10x目鏡下實現 放大倍數:(50X、100X、200X、500X)
     （選配）如需其他倍率，參見拓展(選購)附件 或咨詢客服
（5）物鏡轉換器：內定位5孔轉換器
（6）載物臺：雙層機械移動平臺，低手位X、Y方向同軸調節；平臺面積175mmX145mm,移動范圍：76mmX42mm
（7）調焦機構：透反兩用機架，低手位粗微同軸調焦機構。粗調行程28mm，帶平臺位置上下調節機構，樣品高度78mm,微調精度0.002mm。帶有防止下滑的松緊調節裝置和隨機上限位裝置
（8）聚光鏡：搖出式消色差聚光鏡（N.A 0.9)(透射用）
（9）照明系統：柯拉照明系統，帶視場光闌與孔徑光闌，中心可調；帶斜照明裝置（燈泡12v50w）