主要技術指標用途用于Fe、Ai、Mg、Cu、Zn、Sn、Ti、Ni、Co等多種基體的金屬及金屬合金中的組成元素、雜質微量元素的定量分析光學系統采用帕邢一龍格型光學系統焦距：750mm分析波長范圍：130nm-800nm全息凹面光柵：曲率半徑750mm刻劃密度：2400或3600條／mm線色散：0

  主要技術指標

主要性能特點

●采用的LPC1752嵌入式微控制器控制器技術，高性能、低功耗的32位微處理器，提高了數據處理速  度、簡化了系  統，增強了系統的可靠性

●信號電路采用低漂移，低偏置，高可靠性芯片，性能可靠穩定

●數字式激發源頻率400Hz - 1000Hz可任意設定，連續可調，適應于各種材質分析

●采用光纖通訊，隔斷激發源與測量系統之間直接電氣連接，避免了高頻高壓對弱信號檢測昀干擾，提高了數據的穩定性。

●電器部分采用高度集成化設計，體積小，故障率低。

●的外形設計，美觀大方，使用更便捷。

●光室為整體鋁板雕制而成的結構，真空室密封性好減少真空泵的運行時間，4-5小時啟動一次，每次工作15  分鐘；旋片式真空泵噪聲小，真空度優于1.5Pa，大大提高了儀器的長期穩定性。

●高精度光電倍增管-1000V高壓連續可調技術，穩定度8小時優于0.5%

●計算機控制步進電機全自動描跡為水平。

●真空光學系統恒溫35土0.1℃，減少外部環境對光譜儀穩定性的影響。

●開放式火花臺，適用于大工件分析。

●新型手動壓樣系統，操作方便。

●豐富的軟件功能，多國爵言設計，且有干擾校正、基體校正、多個通道同時描跡等功能。

●關鍵的核心部件全部來自國際廠商，光柵采用美國光柵實驗室公司；信號接收元件采用H本專Ik廠京生  產的光電倍增管；其它易損件大多數購于廠商，儀器可靠性得到了充分保證。