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GD Profiler 2 射頻輝光放電光譜儀

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 上海瓦克儀器有限公司
  • 品牌
  • 型號(hào) GDProfiler2
  • 所在地 上海市
  • 廠商性質(zhì) 其他
  • 更新時(shí)間 2024/3/13 21:41:39
  • 訪問(wèn)次數(shù) 58

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解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等

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解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)
輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽(yáng)能電池、鋰電池陰陽(yáng)、光學(xué)玻璃、核材料等。



GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具,適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡(jiǎn)單、便于維護(hù),是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

? 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。
? 采用高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD),可測(cè)試ppm-99%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。
? 分析速度快(2-10nm/s)



技術(shù)參數(shù)

1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,表面信息無(wú)任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有光效率和靈敏度。
5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD)可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-99%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強(qiáng)的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。
8、單色儀(選配)可提高儀器靈活性,可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試,稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。



儀器原理:

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩的電壓達(dá)到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。


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