Apreo 革命性的復合透鏡設計結合了靜電和磁浸沒技術，可產生的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。

Apreo 受益于的透鏡內背散射探測，這種探測提供**的材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時也不例外。新型復合透鏡通過能量過濾進一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾。可選低真空模式，現在的**樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求*嚴苛的絕緣體進行成像。

通過這些優勢（包括復合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應對未來的研究難題。

性能特點

的復合末級透鏡可在任何樣品（甚至在傾斜時貌起伏大）上提供優異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進行電子束減速。
作用極大的背散射探測始終可保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進行 TV 速率成像時也不例外。
無比靈活的探測器可將各個探測器分割提供的信息相結合，讓用戶能夠獲得至關重要的對比或信號強度。
各種各樣的電荷緩解策略，包括倉室壓力**為 500 Pa 的低真空模式，可實現任何樣品的成像。
**的分析平臺提供高電子束電流，而且束斑很小。倉室支持三個 EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析而優化的低真空系統。
樣品處理和導航極容易，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。

應用領域

掃描電鏡**地應用于金屬材料（鋼鐵、冶金、有色、機械加工）和非金屬材料（化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維）等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。