暗場顯微成像系統IMATM暗場高光譜一款高速面成像設備，該系統是以顯微技術與高光譜相機結合可同時滿足對納米材料的暗場透射模式及明場和暗場反射模式下的超光譜成像，即可獲得樣品的圖像信息也可獲得每個像素上樣品的光譜信息

暗場顯微成像系統

IMA^TM暗場高光譜一款高速面成像設備，該系統是以顯微技術與高光譜相機結合可同時滿足對納米材料的暗場透射模式及明場和暗場反射模式下的超光譜成像，即可獲得樣品的圖像信息也可獲得每個像素上樣品的光譜信息。該系統在可見-近紅外光譜范圍進行數據采集。

其中成像部分采用高光譜相機。不同于傳統的相機采用紅綠藍三個相對較寬的光譜通道來反應光譜的范圍；高光譜相機采用體帶通，可對較窄的光譜通道單獨成像，圖像中的每個像素都可獲得光譜信息。

我們的高光譜成像相機有幾種優勢：光譜范圍可拓展至1700nm，光譜分辨率達2nm。面成像，不需要移動平臺推掃成像，不會有像素偏移的圖像問題。

顯微鏡采用奧林巴斯、尼康或Mitutoty公司提供的正置或倒置顯微鏡。

暗場照明通常用于分析生物樣品中含有明顯散射的納米粒子。當與高光譜結合時，該設備即可獲得納米粒子的成分和位置。由于其的成像方式，可以配備高效的暗場聚光器獲得高對比度的圖像。該設備有以下優勢：

1、 可配備干式和油浸聚光器

2、 為色差校正提供了功能，可以使每個波長的圖像都聚焦到焦點處，每個波長可獲得清晰圖像。

3、 配置靈活，可以輕松的在暗場和明場下執行熒光、反射、透射成像。

4、 可選配不同激發波長的激光，也可使用100W的汞燈，可配備6個不同波段的。

應用案例：

產品特點

l   快速全視野成像

l   高空間分辨率和光譜分辨率

l   可定制

l   無損分析

l   光譜分為可從400-1700nm

主要參數：