公司介紹: 德國Microworks 公司成立于 2007年, 是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)微技術研究所 (IMT) 衍生的子公司。通過使用X 射線和激光LIGA技術,Microworks為客戶提供高精度微結構的產品。在微納米技術領域,Microworks代表著高精度。在一個晶片內或者從一個晶片到另一個晶片,其高縱橫比和精度可以遠低于1µm。其產品涵蓋相襯成像光柵、微齒輪、雙曲型電極、精密篩、近紅外濾波器(選頻濾波器)、微彈簧,RF等。 產品介紹: 由于材料中x射線的折射率略小于1,所以x射線透鏡有一個雙凹透鏡原件,每個聚焦元的焦距都非常小。通過線性地對齊許多元件,焦距可以顯著地減少到幾厘米的范圍。 沿光軸放置許多小透鏡元件,使入射的x射線光束逐漸聚焦到一個微米級焦點上。使用90度交替排列的原件使用垂直方向和水平方向都可以實現聚焦。透鏡元件的由SU-8光刻膠制成的,像聚合物在硅晶圓上。環氧樹脂抗蝕劑SU-8過去常使用在平板印刷過程中,它主要由高靈敏度、高靈敏度、x射線透明,且化學性能好和機械穩定性的特點。目前透鏡的X射線穩定性已經測試到了≈2 MJ/cm3。 優勢: 光軸不發生改變 聚焦質量不會因長時間曝光而改變 易于安裝 菲涅爾透鏡可選 如果你需要CRL鏡,請告訴我們 1. 光子能量(KEV)(單色) 2. 光源尺寸(V [µm]× H [µm], FWHM) 3. SD,光源到鏡片中心距離(m) 4. WD, 工作距離,鏡片中心到焦點距離(mm) 5. 光源和透鏡間光學元件(虛擬光源,聚焦元件)的位置和和這些元件所在位置的光束尺寸。 6. 需要的聚焦光斑尺寸:(V [μm]× H [μm], FWHM) 7. 鏡頭中心到探測器平面的距離 參數: 適用能量范圍寬(> 8 keV) 入口孔徑:高達1500µm 聚焦尺寸:小0.5 μm x 0.5 μm 透鏡材料:SU-8 (epoxy resist) 聚焦案列: X射線透鏡系統-焦距可變(變焦鏡) · 點/線聚焦 · 適用于高能應用>100KeV · 可用作準直透鏡 · 用戶可通過可移動的聚焦元件來優化工作距離 · 手動或電動驅動 · 100 mm x 120 mm x 100 mm的小巧外形尺寸 多聚焦條件透鏡系統(多焦點透鏡) 大口徑、低吸收的X射線棱鏡透鏡 · 為不同的設置而優化的鏡頭可以安裝在一個鏡頭快中 · 多可提供10x10透鏡矩陣(在150µm物理孔徑下) · 通過照亮整個光圈可在一個平面上的獲得多個焦點 · 聚焦案列: 12.4 keV, WD = 1.6 m Incident beam size: 1.5 mm x 1.5 mm Focus point size: 52 μm x 46 μm Delivery examples (SPring-8) BL13XU, BL43LXU硬X射線聚焦(標準CRL)
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