德國UHL精密測量顯微鏡特點：
精密測量顯微鏡之模塊式設計－滿足每一個用戶的需求
工業：機器設備制造，汽車工業，航空航天，電子半導體，精密機械，光學，醫學
研 究：科研工程和高等院校
實驗室：檢驗和鑒定實驗室，刑事技術實驗室
應用：質量控制，零件加工，產品研發，工具制造，成型制造，材料技術
檢驗：張力和非張力產品，彎曲和沖壓零件，噴鑄零件，電機和驅動零件，螺紋，*，電子器件，教學，光柵尺，醫學組織
功能：長度和角度測量，輪廓測量，膜層厚度測量，材料分析，材料斷裂分析
材料：金屬，塑料，陶瓷，玻璃，橡膠
精密測量顯微鏡之基本機械結構：
沉穩結實的鑄鐵機身
*的測量穩定性，受溫度變化極小
極穩定的測量臺，滾柱軸承導軌
可靠的工作臺承受
測量臺測量范圍（X/Y）：150X100，250X150 mm
測量臺快速定位，解除鎖定，可手動任意移動和便捷精調測量臺，可選電機驅動測量臺
精密測量顯微鏡之測量系統：
光電測量系統，增量鋼質光柵尺，分辨率 0.0001 mm
可選擇Z-軸數字測量系統，測量范圍 150 mm
極小的誤差保證高精度測量
PTB認可的標定標準，按照VDI/VDE 2617 驗證的定位精度
精密測量顯微鏡之光學系統：
遠焦平場EPLAN測量物鏡用于長度和形狀測量
顯微熒光物鏡PLAN FLUOR 用于表面分析，如金相分析
遠心光路的物鏡意味著，即使沒有聚焦在被測零件上，所成像的大小也不改變- 這是保證高精密測量優良必要的前提。
物鏡具有*高的光學質量，上乘的校正，平場無畸變的成像–所有物鏡由徠卡LEICA設計
大的工作距離適合測量高的零件
物鏡更換便捷，物鏡轉盤接口
攝像頭接口，用于圖象處理
雙目觀察
明場和暗場圖象觀察，可選偏振光源，相差干涉條紋對比（DIC）
光源：
外部鹵素冷光源 30 – 250W
光纖導線
照明方式：透射，反射，傾斜照明和環形照明
金相分析：明場，暗場，干涉條紋對比和偏振
OMS/IMS 測量軟件
OMS 測量軟件靈活易學, 2，3維測量, 與手動或電動測量顯微鏡連接使用.
適合實驗室或生產環境使用, 測量原始樣本,批量測量.
