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- 公司名稱 上海昊量光電設(shè)備有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地
- 廠商性質(zhì) 代理商
- 更新時間 2020/9/29 17:08:31
- 訪問次數(shù) 612
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特惠價50萬人民幣,一套完整的激光拉曼掃描成像系統(tǒng),同時可升級擴(kuò)展為瞬態(tài)熒光,光電流成像!
*!50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)
*!50萬RMB!高速大面積共聚焦拉曼成像系統(tǒng)
——(可擴(kuò)展為光電流成像系統(tǒng))
產(chǎn)品簡介
Nanobase共聚焦拉曼成像光譜儀系統(tǒng)采用透射式光路設(shè)計,提高了產(chǎn)品的靈敏度和穩(wěn)定性。*的振鏡掃描技術(shù)能夠在臺面固定不動的情況下實現(xiàn)快速二維成像掃描。該技術(shù)在聯(lián)用光電流成像系統(tǒng)載臺時優(yōu)勢明顯,并且可擴(kuò)展增加熒光壽命檢測系統(tǒng)。
XperRam C series是基礎(chǔ)款,采用一個532nm激光器激發(fā),集成了奧林巴斯顯微鏡,可以測量樣品的Raman/PL的光譜信號和mapping(Image)圖像。光譜信號強(qiáng),掃描速度快,。
系統(tǒng)光路
拉曼成像mapping
(a) MoS2 sample microscope image (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity image
(c) 30x30µm size 0.1µm step Intensity image (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image
產(chǎn)品特點
?超高的性價比(免稅僅五十萬)
?平臺不動,采用*的振鏡掃描技術(shù)
? 具有優(yōu)異的掃描分辨率和重復(fù)性
(激光掃描分辨率< 0.02 um & 重復(fù)性< 0.1 μm)
? 體相全息光柵光譜儀(光透過率>90%,比反射式光柵高30%,信號傳輸效率更高)
? 具有Raman/PL等多種測量模式,可擴(kuò)展為光電流成像功能
? 結(jié)構(gòu)緊湊,模塊化設(shè)計
? 掃描速度快,掃描范圍大200µm x 200µm范圍內(nèi)高速成像 & 2D Mapping
應(yīng)用領(lǐng)域
石墨烯,二維材料,生物樣本,半導(dǎo)體工業(yè),碳納米管,碳材料,太陽能電池,儲能材料,納米纖維分布,探測器光電性能檢測,晶圓體分析,制藥分析,納米材料檢測,生物細(xì)胞成像,微塑料檢測,金剛石微粉檢測。
基本參數(shù)
激光器 | ? 一個CW DPSS激光器 ? 激光器波長:405nm/532nm/633nm(532nm通用型號) ? 輸出:大100mW |
顯微鏡 | ? 奧林巴斯顯微鏡:BX4X, BX5X, BX61 (正置) ? 反射式/透射式LED照明 ? 物鏡:標(biāo)配(40X, NA=0.75) 選配:多種倍率和超長焦距物鏡 ? 透過率:>60% (360nm~1000nm) |
掃描模塊 | ? 掃描面積:200um×200um (大) ? 掃描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重復(fù)性) ? 小步進(jìn):0.1um ? 掃描速度:>20 譜/秒 |
探測器 | ? 科學(xué)級TEC制冷CCD ? 分辨率:1932×1452 Pixels |
光譜范圍 | ? 大 203750px-1 ? 低:250px-1(需額外加低波數(shù)模塊,通用型號1250px-1) |
光柵選擇 | ? 300/600/1200/1800/2400 lpmm (可選) |
其它附加選項 | ? 光電流探針臺 ? 偏振控制 ? 功率控制ND濾波片 |
使用Nanobase XperRam Compact系列拉曼成像光譜儀發(fā)表的部分文獻(xiàn):
1. Ising-Type Magnetic Ordering in Atomically Thin FePS3gnetic Ordering in Atomically Thin FePS3
影響因子: 12.08 期刊名稱: NANO Letters(2016) , 作者單位: 首爾國立大學(xué)物理與天文學(xué)系, 通訊作者: Hyeonsik Cheong
2. Electrically conductive cement mortar: Incorporating rice husk-derived high-surface-area graphene
期刊名稱: Construction and Building Materials(2016) , 作者單位: 全南國立大學(xué)高分子科學(xué)與工程學(xué)院, 通訊作者: Ji Hoon Kim
3. Wafer-Scale van der Waals Heterostructures with Ultraclean Interfaces via the Aid of Viscoelastic Polymer
影響因子: 8.097 期刊名稱: ACS Applied Materials and Interfaces(2018) , 作者單位: 成均館大學(xué), 通訊作者: Young Hee Lee
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