品牌：卡爾·蔡司

 型號：SUPRA 55 SAPPHIRE

 制造商：德國卡爾蔡司公司

【品牌故事】 
    世界*光學品牌，可見光及電子光學的----德國蔡司公司始創于1846年。其電子光學前身為LEO（里奧）,更早叫Cambridge（劍橋），積掃描電鏡領域40多年及透射電鏡領域60年的經驗，ZEISS電子束技術在世界上創造了數個*：

   *臺靜電式透射電鏡 （1949）
    *臺商業化掃描電鏡 （1965）
    *臺數字化掃描電鏡（1985）
    *臺場發射掃描電鏡（1990）
    *臺帶有成像濾波器的透射電鏡 （1992）
    *臺具有Koehler照明的 200kV 場發射透射電鏡（2003）
    *臺具有鏡筒內校正Omega能量濾波器的場發射透射電鏡（2003）

    CARL ZEISS以其前瞻性**的設計融合歐洲*制造工藝造就了該品牌在光電子領域無可撼動的*地位。自成立至今，一直延續不斷創新的傳統，公司擁有電鏡制造zui核心的專有技術，隨著離子束技術和基于電子束的分析技術的加入、是*為您提供鎢燈絲掃描電鏡、場發射掃描電鏡、雙束顯微鏡（FIB and SEM）、透射電子顯微鏡等全系列解決方案的電鏡制造企業。其產品的高性能、高質量、高可靠性和穩定性已得到*廣大用戶的信賴與認可。作為電鏡標準*的CARL ZEISS將一路*電鏡市場為您開創探求納米科技的嶄新紀元。

【總體描述】

    SUPRA 55 SAPPHIRE是一款擁有第三代GEMINI鏡筒的高性能場發射電子顯微鏡，它有*的擺動緩沖系統，并結合了5軸驅動載物臺，通過不斷變換電壓可以獲得很高的分辨率。對于使用者來說，SUPPRA 55 SAPPHIRE的系統功能強大，可以在性對不穩定的環境下完成檢測，*分析型的場發射掃描電鏡探針電流可達到20nA，適用范圍如材料領域、半導體技術、生命科學和納米技術領域等。

    ZEISS的場發射掃描電鏡全部采用新一代鏡筒（GEMINI）設計，具有優良的高、低加速電壓性能。創新的InLens設計是目前世界上*真正的內置鏡筒電子束光路上二次電子探測器，具有*的靈敏度和zui高的接收效率，而且只接收來自樣品表面的二次電子，因此具有業界zui高等級的分辨率和圖像質量。二次電子探測器和背散射電子探測器均內置于鏡筒電子束光路上，試樣的工作距離不受背散射探測器的影響，可以非常接近極靴，這樣可以同時獲得zui高的二次電子像分辨率和背散射電子像分辨率，且接收的背散射電子的能量可以控制。ZEISS的場發射掃描電鏡創造性的采用電磁、靜電復合式物鏡，雜散磁場小，可對鐵磁體樣品進行高分辨率成像。

【技術參數】
分辨率：   0.8nm@ 15KV    
           1.6nm @ 1KV           
           2.0nm @ 30KV（VP mode）
放大倍數： 12 - 1,000,000x
加速電壓： 0.02 - 30 KV
探針電流： 4 pA - 20 nA （12pA - 100 nA 可選）
樣品室：   330 mm （φ） x 270 mm （h）
樣品臺：   5軸優中心全自動 
                 X = 130mm 
                 Y = 130 mm 
                 Z = 50mm 
                 T = -3 to 70° 
                 R = 360°連續旋轉
系統控制：基于Windows XP 的SmartSEM操作系統,可選鼠標、鍵盤、控制面板控制

 【產品應用】
      掃描電鏡（SEM）廣泛地應用于金屬材料（鋼鐵、冶金、有色、機械加工）和非金屬材料（化學、化工、石油、地質礦物學、橡膠、紡織、水泥、玻璃纖維）等檢驗和研究。在材料科學研究、金屬材料、陶瓷材料、半導體材料、化學材料等領域進行材料的微觀形貌、組織、成分分析，各種材料的形貌組織觀察，材料斷口分析和失效分析，材料實時微區成分分析，元素定量、定性成分分析，快速的多元素面掃描和線掃描分布測量，晶體、晶粒的相鑒定，晶粒尺寸、形狀分析，晶體、晶粒取向測量。