儀器為光譜型橢偏儀，它的設計緊湊、易于使用，可以精確測量膜層的厚度和折光系數。

薄膜厚度范圍：1納米 – 8 微米； 
厚度分辨率為0.1納米；
測量速度： 5 – 15秒；
重現性： cos(Delta) ±0.0003, tan(Psi) ± 0.0002 (Si上70納米SiO2)；
光譜范圍： 450納米 – 900納米(其他波長范圍可以選配)；
角度： 70° (其他角度可以選配)；
Mapping功能： 6”/12” 選配，準確度±10微米，光學編碼全自動控制；
光學顯微鏡： 不同放大倍數選配；
軟件： 一鍵厚度測量，易于使用，多等級用戶管理，多種數學模型構建；

關于橢圓偏光法
橢圓偏光法是基于測量偏振光經過樣品反射后振幅和相位的改變研究材料的性質。光譜型橢偏儀在全部光譜范圍內(而不是特定的波長)測量Psi和Delta，通過構建物理模型對數據進行擬合分析，zui終得到膜厚、折光系數、吸收、粗糙度、組成比率等結果。